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Publikation: Zeitschriftenartikel
Formation of Ge-0 and GeOx nanoclusters in Ge+-implanted SiO2/Sithin-film heterostructures under rapid thermal annealing
Grunddaten
Autoren
Einrichtung
Grunddaten
Titel
Formation of Ge-0 and GeOx nanoclusters in Ge+-implanted SiO2/Sithin-film heterostructures under rapid thermal annealing
Veröffentlicht in
Applied surface science : a journal devoted to applied physics and chemistry of surfaces and interfaces. - Amsterdam [u.a.] : Elsevier
Erscheinungsjahr
2015
Seiten (von – bis)
780 – 784
Band
349
Jahr
2015
Publikationsform
Druckschrift
Publikationsart
Zeitschriftenartikel
Sprache
Englisch
Letzte Änderung
14.01.2016 15:44:29
Bearbeitungsstatus
durch UB Rostock abschließend validiert
Dauerhafte URL
http://purl.uni-rostock.de/fodb/pub/48675
Links zu Katalogen
Autoren
Zatsepin, A. F.
Zatsepin, D. A.
Zhidkov, I. S.
Kurmaev, E. Z.
Fitting, Hans-Joachim
Schmidt, B.
Mikhailovich, A. P.
Lawniczak-Jablonska, K.
Einrichtung
MNF/Institut für Physik (IfPH)