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Publikation: Zeitschriftenartikel
Ionized vapor deposition of antimicrobial Ti-Cu films with controlled copper release
Grunddaten
Autoren
Einrichtung
Grunddaten
Titel
Ionized vapor deposition of antimicrobial Ti-Cu films with controlled copper release
Veröffentlicht in
Thin solid films : international journal on the science and technology of condensed matter films. - Amsterdam [u.a.] Elsevier
Erscheinungsjahr
2014
Seiten (von – bis)
389 – 394
Band
550
Heft-Nr.
1
Jahr
2014
Publikationsform
Druckschrift
Publikationsart
Zeitschriftenartikel
Sprache
Englisch
Letzte Änderung
16.05.2019 21:26:35
Bearbeitungsstatus
durch UB Rostock abschließend validiert
Dauerhafte URL
http://purl.uni-rostock.de/fodb/pub/43317
Links zu Katalogen
Autoren
Stranak, V.
Wulff, H.
Ksirova, P.
Zietz, Carmen
Drache, S.
Cada, M.
Hubicka, Z.
Bader, Rainer
Tichy, M.
Helm, C. A.
Hippler, R.
Einrichtung
UMR/Orthopädische Klinik und Poliklinik (OUK)